Đột phá trong công nghệ tái chế silicon ở nhiệt độ phòng

2026,08,04

Từ khóa : tái chế silicon, kinh tế tuần hoàn, khử polyme polysiloxane, chất xúc tác Ga/BCl₃

Câu chính : Một nhóm nghiên cứu toàn cầu đã phát triển hệ thống xúc tác hợp tác Ga/BCl₃ cho phép khử polyme ở nhiệt độ gần phòng (40°C) chất thải silicon liên kết ngang với hiệu suất >90%, một bước quan trọng hướng tới nền kinh tế tuần hoàn silicon.

Một nghiên cứu mang tính bước ngoặt được công bố trên Science vào ngày 2 tháng 8 năm 2026, đã tiết lộ một công nghệ tái chế silicon ở nhiệt độ phòng mang tính cách mạng. Các nhà nghiên cứu từ MIT, Đại học Thanh Hoa và Wacker Chemie đã phát triển hệ thống xúc tác tổng hợp gallium (Ga) và boron trichloride (BCl₃) để khử chất thải silicon liên kết ngang (cao su, dầu và chất đàn hồi) thành chất trung gian chlorosilane có giá trị cao ở 40°C dưới áp suất khí quyển. Quá trình này đạt được hiệu suất chuyển đổi >90%, giải quyết thách thức lâu dài của ngành: cấu trúc liên kết chéo có độ ổn định cao của silicone khiến cho việc tái chế truyền thống tốn nhiều năng lượng và năng suất thấp. Bước đột phá này cho phép tái chế chất thải silicon theo chu trình khép kín, giảm sự phụ thuộc vào nguyên liệu thô thạch anh nguyên chất và cắt giảm 65% lượng khí thải carbon so với sản xuất thông thường. Các nhà máy thí điểm thương mại dự kiến sẽ ra mắt tại Đức và Trung Quốc vào quý 1 năm 2027.

Trước đó

Contal chúng tôi

Tác giả:

Ms. zhou

E-mail:

alice@szrl.net

Phone/WhatsApp:

18926763719

Sản phẩm được ưa thích

Tin tức công ty